Kjernefunksjoner og nøkkelapplikasjoner

Inert beskyttelse (antioksidasjon/fuktighetsforebygging): Kjemisk stabil, nitrogen isolerer oksygen og fuktighet, og forhindrer dermed oksidasjon eller kontaminering av sensitive materialer som silisiumskiver, metallforbindelser og fotoresists. Typiske scenarier inkluderer: waferlagring/transport, fotoresistbelegg, CVD/ALD-tynnfilmavsetning, rask termisk utglødning (RTA) og trådbinding.

Prosesskontroll og bæregass: Den fungerer som en bæregass for å transportere forløpere, og sikrer at de leveres jevnt inn i reaksjonskammeret. Den fungerer også som en fortynning eller bakgrunnsgass for å stabilisere plasma, regulere reaksjonshastigheter og forbedre tynnfilm-ensartethet samt etsningsprofilpresisjon. Typiske scenarier inkluderer: CVD/ALD, plasmaetsing og ioneimplantasjonsbuffring.

Rensing og rensing: Den renser grundig gjenværende stoffer fra utstyrskamre og rørledninger for å forhindre krysskontaminering. I tillegg opprettholder det positivt trykk i renrom og etablerer beskyttende luftgardinbarrierer. Typiske scenarier inkluderer: kammerbytte i litografi/etseverktøy, gassledningsbytte og vedlikehold av overtrykk i renrom.

Hjelpe- og spesialapplikasjoner: Beskyttelse av sjetonger under høytemperaturprosesser; hemmer loddeoksidasjon og forbedrer fuktbarheten under SMT-reflow og bølgelodding; minimere overflateoksidasjon under laserbehandling; og gir et inert lagringsmiljø for sensitive komponenter (som magnethoder og lysdioder) for å redusere feilfrekvensen.